Ease-of-use protocol for the rapid detection of third-generation cephalosporin resistance in Enterobacteriaceae isolated from blood cultures using matrix-assisted laser desorption ionizatione time-of-flight mass spectrometry

C. Foschi^*, M. Compri, V. Smirnova, A. Denicolò, P. Nardini, M.V. Tamburini, D. Lombardo, M.P. Landini, S. Ambretti
^*St. Orsola-Malpighi University Hospital, Italy
Journal of Hospital Infection (2016) 93, 206-210
マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析法を用いて、血液培養ボトルから分離された腸内細菌科細菌について、第 3 世代セファロスポリンに対する耐性を容易に検出できるプロトコールを開発し、その評価を行った。
作業時間を最小限とし、ルーチンのワークフローに組み組むため、抗菌薬ディスクを置いたチョコレート寒天培地に発育したコロニーを用いた（菌数の標準化は行わない）セフォタキシム加水分解アッセイを開発した。このアッセイは、セフォタキシム感受性株とセフォタキシム耐性株の識別に良好な結果を示し、大腸菌（Escherichia coli）で優れた結果が得られた（感度 94.7％、特異度 100％）。しかし、AmpC 遺伝子を発現する腸内細菌科細菌や、カルバペネマーゼ産生肺炎桿菌（Klebsiella pneumoniae）におけるセフォタキシム耐性については信頼性をもって検出されなかった。
サマリー原文（英語）はこちら
監訳者コメント：
マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析法（MALDI-TOF）は迅速性・簡便性に優れ、菌種の同定に多く用いられ、さらに薬剤耐性の検出にも応用されつつある。腸内細菌科において第 3 世代セファロスポリン耐性が迅速に判明すれば、治療・感染対策の両面において利用価値が高い。今回の検討では限界を示す結果であったが、菌種・耐性機構によってどの程度差があるのか、今後の知見が待たれる。

Investigating steam penetration using thermometric methods in dental handpieces with narrow internal lumens during sterilizing processes with non-vacuum or vacuum processes

Effectiveness of air purifiers in intensive care units: an intervention study
 
I. Arıkan*, Ö. Genç, C. Uyar, M.E. Tokur, C. Balcı, D. Perçin Renders
*Kutahya Health Sciences University, Turkey
 
Journal of Hospital Infection (2022) 120, 14-22
 

Continuing performance feedback and use of the ultraviolet visible marker to assess cleaning compliance in the healthcare environment

Effectiveness of patient and staff cohorting to reduce the risk of vancomycin-resistant enterococcus (VRE) acquisition: a retrospective cohort study during a VRE outbreak in Japan

K. Kakimoto*, S. Nishiki, Y. Kaga, T. Harada, R. Kawahara, H. Takahashi, E. Ueda, N. Koshimo, H. Ito, T. Matsui, K. Oishi, T. Yamagishi
*National Institute of Infectious Diseases, Japan

Journal of Hospital Infection (2023) 134, 35-42

Ten years of KISS: The most important requirements for success